标准号查询:
标准名称查询:
首页 > 标准目录列表
序号
标准号
标准名称
代替标号
国家/行业
31
DIN 50450-2:1991 半导体材料测试技术:载气和掺杂气体杂质含量测量-采用原电池法测量氧中N2、Ar、He、Ne、H2杂质含量
32
DIN 50450-3:1987 半导体材料测试技术:载气和掺杂气体杂质含量测量-采用火焰电离检测器(FID)测量甲烷中H2,O2,N2,Ar和He杂质含量
33
DIN 50450-4:1993 半导体材料测试技术:载气和掺杂气体杂质含量测量-采用气相色谱分析法测量氮中C1-C3-烃基含量
34
DIN 50450-9:2003 半导体材料测试技术:载气和掺杂气体杂质含量测量-9部分:采用气相色谱分析法测量气态氯化氢中氧、氮、一氧化碳、二氧化碳、氢和C1-C3-烃基含量
35
DIN 50451-1:2003 半导体材料测试技术:液体中微量元素的测定-1部分:采用AAS法测量硝酸中银、金、钙、铜、铁、钾和钠含量
36
DIN 50451-2:2003 半导体材料测试技术:液体中微量元素的测定-2部分:采用等离子体感应发射光谱法测量氢氟酸中钙、钴、铬、铜、铁、镍和锌含量
37
DIN 50451-3:2003 半导体材料测试技术:液体中微量元素的测定-3部分:采用ICP-MS测量硝酸中铝、钴、铜、钠、镍和锌含量
38
DIN 50451-4:2007 半导体材料测试技术:液体中微量元素的测定-4部分:采用感应耦合等离子体法(ICP-MS)测量超纯水中34种元素含量
39
DIN 50452-1:1995 半导体材料测试技术:液体中粒子的分析方法-1部分:微粒的显微测量法
40
DIN 50452-2:1991 半导体材料测试技术:液体中粒子的分析方法:采用光学粒子计数器测量粒子
41
DIN 50452-3:1995 半导体材料测试技术:液体中粒子的分析方法-3部分:光学粒子计数器校正
42
DIN 50453-1:1990 半导体材料测试技术:腐蚀剂速率测试 二氧化硅 重量法
43
DIN 50453-2:1990 半导体材料测试技术:腐蚀剂速率测试 二氧化硅包覆层 光学法
44
DIN 50454-1:2000 半导体材料测试技术:III-V族化合物半导体单晶位错测量 1部分:砷化镓
45
DIN 50454-2:1994 半导体材料测试技术:III-V族化合物半导体单晶位错腐蚀坑密度测量 2部分:磷化铟
46
DIN 50454-3:1994 半导体材料测试技术:III-V族化合物半导体单晶位错腐蚀坑密度测量 3部分:磷化镓
47
DIN 50455-1:1991 半导体材料测试技术:光敏特性方法 光学法测量包覆层厚度
48
DIN 50455-2:1999 半导体材料测试技术:光敏特性方法 2部分:正性光致抗蚀剂光敏性的测量
49
DIN 50456-1:1991 半导体工艺材料检验 鉴定电子元件用模压组件的方法 环氧树脂模压组件热-机械膨胀的测定
50
DIN 50456-3:1999 半导体材料测试技术:电子元件组件用光敏特性方法 3部分:阳离子杂质含量测定
51
DIN V VDE V 0126-18-2-1:2007 太阳能级晶片 2-1部分:硅片几何尺寸测量方法-晶片厚度
52
DIN V VDE V 0126-18-2-2:2007 太阳能级晶片 2-2部分:硅片几何尺寸测量方法-厚度变化
53
DIN V VDE V 0126-18-2-3:2007 太阳能级晶片 2-2部分:硅片几何尺寸测量方法-波纹和翘曲度
54
DIN V VDE V 0126-18-2-4:2007 太阳能级晶片 2-2部分:硅片几何尺寸测量方法-刀痕和阶梯型刀痕
55
DIN V VDE V 0126-18-3:2007 太阳能级硅片 3部分:晶体硅片碱性腐蚀损坏-单晶和多晶硅片腐蚀速率的测量(如切口)
56
DIN V VDE V 0126-18-4-1:2007 太阳能级硅片 4-1部分:硅片电性能测试规程-少数载流子寿命在线测量方法
57
DIN V VDE V 0126-18-4-2:2007 太阳能级硅片 4-2部分:硅片电性能测试规程-少数载流子寿命实验室测量方法
58
DIN V VDE V 0126-18-5:2007 太阳能级硅片 5部分:硅片电阻测量规程
59
DIN V VDE V 0126-18-6:2007 太阳能级硅片 5部分:光伏用硅片中代位碳原子和间隙氧原子含量测量方法
59条 上一页 1 2 下一页