关于召开“全国半导体材料技术标准优秀奖”评审工作会议的通知
各相关单位、各位委员或专家：
根据半材标委[2010]7号“关于申报‵全国半导体材料技术标准优秀奖′的通知”要求，全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会各会员单位按要求正在申报技术标准优秀奖推荐项目。现定于2010年10月30日下午在深圳召开评审工作会议（评审专家名单见附件）。会议将对各会员单位推荐的“全国半导体材料技术标准优秀奖”标准项目进行评审。现将会议事项通知如下：
1．会议地点：求水山酒店（深圳市龙岗区布沙路南岭求水山）。
2．乘车路线：①罗湖火车站：乘306路公交车到“南岭花园”站，步行5分钟即达酒店；从火车站乘出租车至酒店约50元。②宝安机场：乘机场7线到“南岭医院”站，步行5分钟即达酒店；从机场乘出租车至酒店约130元。
3．会议期间，食宿统一安排，宿费自理。
4．半导体材料分标委会联系电话：010-62228796
求水山酒店总台：0755-88888999；销售部：蔡颜骐13902970052
附件：评审专家名单
附件：
评审专家名单
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序号 |
单位 |
姓名 |
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1、 |
南京锗厂有限责任公司 |
黄和明 |
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2、 |
洛阳鸿泰电子技术有限公司 |
蒋建国 |
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3、 |
有研半导体材料股份有限公司 |
孙燕 |
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4、 |
广州昆德科技有限公司 |
王世进 |
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5、 |
中国有色金属工业标准计量质量研究所 |
贺东江 |
