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《改良西门子法多晶硅副产品 六氯乙硅烷》等3项半导体材料标准网络审定工作会议顺利召开
2020-07-27 15:46:33   来源:    点击:

       2020年7月15日,全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会组织召开了2020年度第一次全国半导体材料标准工作会议,受新冠疫情影响,本次会议以网络视频的形式召开。会议由全国半导体材料标准化分技术委员会主任委员贺东江教授主持,来自全国20家单位的29名代表参加了会议。贺教授介绍了本年度的标准工作会议初步安排,并明确了本次会议的工作任务。    
       会上对《改良西门子法多晶硅副产品  六氯乙硅烷》《多晶硅生产尾气净化用活性炭》及《多晶硅生产尾气净化用活性炭中杂质含量的测定  电感耦合等离子体原子发射光谱法》等3项半导体材料标准进行了审定。与会专家对3项标准的送审稿、编制说明等相关文件进行了充分的审议,并就《改良西门子法多晶硅副产品 六氯乙硅烷》及《多晶硅生产尾气净化用活性炭》两项产品标准中的关键技术指标进行了详细的讨论,最终达成了一致意见。
       此次会议审定的3项标准送审资料齐全,标准编制过程符合相关规定,标准整体均达到国内先进水平,会上一致通过了送审稿的审定。
       会议完成各项议程后圆满结束。

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