有色金属及合金注册（或备案）申请表
| 单位名称 | 北京有色金属与稀土应用研究所有限公司 | 邮政编码 | 100012 | |||||||||||||||||||||||||||||||||
| 地址 | 北京市朝阳区北苑路40号 | 部门 | 研究中心 | |||||||||||||||||||||||||||||||||
| 产品名称 | 铝硅1 | 生产起始日期 | 2005年1月 | |||||||||||||||||||||||||||||||||
| 现用牌号 | Al-Si1 | 国外相应牌号 | ||||||||||||||||||||||||||||||||||
| 实际生产量 | 1吨 | 实际销售量 | 1吨 | |||||||||||||||||||||||||||||||||
化学成分（质量分数%）：
b 铝的质量分数为100.00％与所有含量不小于0.010％的元素含量总和的差值，求和前各元素数值要表示到0.0X%。 |
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| 主要特性（包括密度、强度、硬度、延伸率、耐蚀性、粒度等，可剪裁。合金需列出密度及其计算过程）： 固液相线温度： 固相线温度：644.87℃ 液相线温度：663.16℃ H14态抗拉强度：134MPa 延伸率：8% H14态维氏硬度HV0.1：43.3
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| 用途及使用效果（请附产品实物图片及销售证明资料，如销售合同或贸易流水单据等。如有出口，请写出主要出口国别和出口量，可附页）： 电子领域用蒸镀用薄膜材料，用于半导体器件掺杂薄膜制备，使用气相沉积的方法制备薄膜。其优点是尺寸精度高，单位重量小而一致性好，因此可通过精准控制蒸镀材料的重量，控制薄膜的厚度和表面状态，从而有效、精准地调控器件的性能，为器件整体性能的实现和稳定性打下良好基础。 |
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| 牌号研制人员 | 焦磊、史秀梅 | 电话 传真 |
010-84935278 | 单位盖章 | 2023年4月10日 | |||||||||||||||||||||||||||||||
| 以上由申请单位填写 | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||
| 标委会审查结论： 拟注册为4B60 负责人（签字）： 年 月 日 |
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征求意见截止时间2023年7月28日
联系电话：010-62228793
联系邮箱：tc243sc1@cnsmq.com
