半导体材料国行标复审及标准工作会顺利召开
2016-09-05 11:02:54   来源：    点击：

2016年8月半导体材料国行标复审及标准工作会顺利召开

      2016年8月19日，全国半导体材料标准化分技术委员会在云南省昆明市组织召开了半导体材料国行标复审及标准工作会，来自30家单位的40名代表参加了会议。本次会议由云南临沧鑫圆锗业股份有限公司协办。

      会议由全国半导体材料标准化分技术委员会秘书长贺东江主持。云南锗业是国内唯一拥有锗矿采选、精深加工、研发一体、锗产业链完整的高新技术企业，公司总工程师普世坤代表协办方欢迎各专家的与会，介绍了公司的基本情况、主要产品以及标准制修订情况等。本次会议主要是对213项推荐性国行标（含计划）进行复审，并对13项国行标进行审定、讨论和任务落实。贺东江秘书长介绍了推荐性标准复审的基本情况和要求，并讨论了此次复审的基本思路，之后分锗材料、硅材料、化合物半导体材料和高纯金属及辅助材料四个部分，逐项对标准复审初步结论进行了讨论确认。会议同时对《区熔锗锭电阻率测试方法 两探针法》进行了审定，对《锗晶体缺陷图谱》等11项标准预审或讨论，对《磷化铟多晶》进行了任务落实，确定了主要内容、时间进度和参编单位等。
      本次会议在完成各项议程后圆满结束。